这对你来说一定很容易,但我却无法做到。这是我的代码:
\cvsection{Education}
\begin{cventries}
\cventry
{B.S. in Computer Science and Engineering} % Degree
{POSTECH(Pohang University of Science and Technology)} % Institution
{Pohang, S.Korea} % Location
{Mar. 2010 - PRESENT} % Date(s)
{}
\cventry
{B.S. in Computer Science and Engineering} % Degree
{POSTECH(Pohang University of Science and Technology)} % Institution
{Pohang, S.Korea} % Location
{Mar. 2010 - PRESENT} % Date(s)
{}
\end{cventries}
我想减少两个\cventry
项目之间的垂直空间。这是我当前的输出。
此简历使用的类别是awesome-cv.cls
。
答案1
您可以修补\cventry
宏以减少使用后插入的空间etoolbox
:
\usepackage{etoolbox}
\patchcmd{\cventry}% <cmd>
{\\ \end{tabular*}}% <search>
{\\[-.5\normalbaselineskip]\end{tabular*}}% <replace>
{}{}% <success><failure>
上述内容可以插入到宏之前\begin{document}
并将提供对\cventry
宏的全局更改。
或者,根据具体情况,您可以插入类似
\vspace{-.5\baselineskip}
s之间\cventry
。
参考: